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Métrologie - Mesure - Analyse > Mesures physico-chimiques

ToF-SIMS pour la caractérisation des matériaux

SCHISCHEK



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Descriptif



Les techniques d'analyse de surfaces, dont les plus connues sont la spectroscopie photoélectronique à rayons X (XPS), la spectrométrie de masse à ionisation secondaire (SIMS) en mode dynamique (profils élémentaires) et le SIMS à temps de vol (ToF-SIMS) en mode statique (analyse moléculaire), sont des outils précieux, et quelquefois incontournables, pour accéder aux informations sur les différents mécanismes physico-chimiques engendrés par les phénomènes de surface. Le nouveau dispositif disponible à partir de la fin 2009 permettra ainsi d'accéder à une caractérisation la plus exhaustive possible de la surface des matériaux : composition chimique et moléculaire, qualitative et quantitative, sur des épaisseurs pouvant concerner les premières couches atomiques jusqu'aux premiers micromètres. Il est ainsi possible d'enrichir la caractérisation pour l'expertise de cas concrets tels que le contrôle de nettoyage d'une surface, la contamination d'une surface, la fonctionnalisation de biomatériaux par des molécules biologiques, les produits cosmétiques sur des surfaces biologiques… En particulier, l'analyse ToF-SIMS en mode statique est une méthode unique de caractérisation des surfaces grâce à sa très grande sensibilité (de l'ordre de la partie par million pour les éléments et de la femtomole pour les composés organiques) et à l'information moléculaire qu'elle permet de retirer des premières monocouches en surface des matériaux.